이전 페이지로
Gas
Etch, Diffusion, CVD 공정과 Scrubber
공정 전 후 Chamber 내 Gas 거동과 성분을 분석합니다.
Mass
Aston impact
가스 샘플 내, 질량이 300 amu 이하의 성분을 분석합니다. compact한 디자인으로 작고 가벼우나, 고성능의 mass filter를 통해 높은 수준의 sensitivity를 보여줍니다.
Aston plasma
가스 샘플 내, 질량이 300 amu 이하의 성분을 분석합니다. EI mode와 Plasma mode 두 가지 이온화 방법을 모두 사용할 수 있습니다. self cleaning으로 제품의 lifetime 이 향상되었습니다
Psi
Auto validation을 통해 소모품의 수명에 따라 필연적으로 발생하는 data drift를 보상합니다. 내부에 별도의 STD gas를 통해 정기적으로 측정을 하여 data의 재현성을 안정적으로 확보합니다